(相關(guān)資料圖)
再創(chuàng)歷史新高！
營業(yè)收入同比增長52.5%
扣非凈利潤為大漲183.44%
非經(jīng)常性損益一定程度上壓制了利潤端表現(xiàn)
真實盈利水平實際上提升幅度較為明顯
從利潤驅(qū)動來看
受益于產(chǎn)品結(jié)構(gòu)改善、毛利率上升
同時規(guī)模效應(yīng)下期間費用率下降
為何非經(jīng)常性收益急劇收縮？
政府補助收益、股權(quán)投資收益大幅減少
從主營業(yè)務(wù)來看
ICP與CCP刻蝕設(shè)備業(yè)務(wù)高速發(fā)展
MOCVD設(shè)備擴展迅猛
從新品開發(fā)來看
積極布局極高深寬比刻蝕設(shè)備
LPCVD薄膜設(shè)備
EPI外延設(shè)備和多種MOCVD設(shè)備
從行業(yè)現(xiàn)狀來看
等離子體刻蝕設(shè)備越來越成為卡脖子的設(shè)備
制程步驟最多、工藝過程開發(fā)難度最高（除光刻機）
占半導(dǎo)體前道設(shè)備總市場約25%。
從二級市場來看
近期股價對業(yè)績快報中釋放的積極信號反應(yīng)平淡
半導(dǎo)體市場下行周期疊加海外供應(yīng)風(fēng)險
晶圓廠設(shè)備采購放緩
半年內(nèi)股價跌幅已達26%
